Protonnyalábos mikromegmunkálás  részletek

súgó  nyomtatás 
vissza »

 

Projekt adatai

 
azonosító
42474
típus F
Vezető kutató Rajta István
magyar cím Protonnyalábos mikromegmunkálás
Angol cím Proton beam Micromachinig
zsűri Gépész-, Építő-, Építész- és Közlekedésmérnöki
Kutatóhely Ionnyaláb-fizikai Laboratórium (MTA Atommagkutató Intézet)
résztvevők Dobos Erik
Erdélyiné Dr. Baradács Eszter
projekt kezdete 2003-01-01
projekt vége 2007-12-31
aktuális összeg (MFt) 5.640
FTE (kutatóév egyenérték) 0.00
állapot lezárult projekt





 

Zárójelentés

 
kutatási eredmények (magyarul)
A téma keretében a mikromegmunkálás módszerét telepítettük az ATOMKI pásztázó proton mikroszondájához. Második lépésben különböző nyomdetektor és más reziszt anyagokat vizsgáltunk a mikromegmunkálás szempontjából. A megmunkált anyagok különböző jellemzőit vizsgáltuk a besugárzási paraméterek függvényében. Az előállított eszközök (mikrostruktúrák) alkalmazási lehetőségeit fel kívántuk kutatni, mikrostruktúrákat állítottuk elő demonstrációs és konkrét alkalmazási célból. A világon második kutatócsoport lettünk e témában, szerepünk azonban nem másodrendű. Kihasználva saját adottságainkat, a nemzetközi irodalomhoz új kutatási eredményekkel járultunk hozzá. Az ATOMKI pásztázó proton mikroszondája így egy új, perspektivikus alkalmazási területet nyert.
kutatási eredmények (angolul)
We have installed the Proton Beam Micromachining (PBM) / P-beam Writing (PBW) method on the Scanning Nuclear Microprobe of ATOMKI. We have investigated various solid state nuclear track detector and other resist materials for micromachining properties. We have characterized various properties of materials as a function of irradiation parameters. We have explored the potential application areas of the produced microstructures. We have created products for demonstration and real application purposes. We became the second research group in the world in this field, but our role is not of secondary importance. Exploiting our resources, we have added new scientific results to the literature. The Scanning Nuclear Microprobe of ATOMKI has gained a new, prosperous application area.
a zárójelentés teljes szövege http://real.mtak.hu/616/
döntés eredménye
igen





 

Közleményjegyzék

 
Szilasi SZ, Rajta I, Juhász A, Szommer P, Baradács E: Hardness changes in PMMA due to proton beam micromachining, poszter előadás, 10th Conference on Nuclear Microprobe Technology and Applications. Singapore, 9-14 July, 2006
Rajta I, Gómez-Morilla I, Abraham MH, Kiss ÁZ: Proton beam micromachining on PMMA, Foturan and CR-39 materials, Nuclear Instruments and Methods B210, 260-265., 2003
I. Rajta, E. Baradács, A.A. Bettiol, I. Csige, K. Tőkési, L. Budai, Á.Z. Kiss: Optimization of particle fluence in micromachining of CR-39, Nuclear Instruments and Methods B231, 384-388., 2005
I. Rajta, E. Baradács, M. Chatzichristidi, E.S. Valamontes, I. Uzonyi, I. Raptis: Proton beam micromachining on strippable aqueous base developable negative resist, Nuclear Instruments and Methods B231, 423-427., 2005
S.Z. Szilasi, E. Baradács, I. Daruka, P. Raics, C. Cserháti, E. Dobos, I. Rajta: PMMA melting under proton beam exposure, Nuclear Instruments and Methods B231, 419-422., 2005
Dücső Cs, Rajta I, Fürjes P, Baradács E: Concept for processing of silicon check valves by proton beam micromachining, Nuclear Instruments and Methods B 260, 409-413., 2007
Rajta I, Chatzichristidi M, Baradács E, Cserháti Cs, Raptis I, Manoli K, Valamontes E S: Proton beam micromachined buried microchannels in negative tone resist materials, Nuclear Instruments and Methods B260, 414-418., 2007
Rajta I, Szilasi S Z, Budai J, Tóth Z, Petrik P, Baradács E: Refractive index depth profile in PMMA due to proton irradiation, Nuclear Instruments and Methods B260, 400-404., 2007
Rajta I: Protonnyalábos mikromegmunkálás: egy új, direkt írásos, 3-dimenziós litográfiás eljárás, Fzikai Szemle LVII: (6) 187-190, 2007
E. Baradács, I. Csige, I. Rajta: CO2 treatment and vacuum effects in proton beam micromachining of PADC, Radiation Measurements (közlésre elfogadva) http://dx.doi.org/10.1016/j.radmeas.2008.02.007, 2008
M. Chatzichristidi, I. Rajta, Th. Speliotis, E. Valamontes, D. Goustouridis, P. Argitis, I. Raptis: Aqueous base developable: easy stripping, high aspect ratio negative photoresist for optical and proton beam lithography, Microsystem Technologies (közlésre elfogadva) DOI 10.1007/s00542-008-0571-x, 2008




vissza »